日本Lasertec以雙共聚焦光學系為基礎,搭載微分干涉觀察,垂直白光干涉測定,相差干涉測定,反射分光膜厚測定等功能,通常多臺設備才能完成的測試,僅需一臺設備即可實現(xiàn)。
關鍵詞:激光共聚焦顯微鏡,白光共聚焦顯微鏡,lasertec共聚焦顯微鏡
OPTELICS HYBRID+ 簡介:
日本Lasertec公司推出了Optelics混合共焦顯微鏡,將激光和白光源組合在一體,用于多功能高性能共聚顯微鏡.兩組共焦光學器件與附加器件相結(jié)合,包括干涉儀,微分干涉對比觀察和光譜反射膜厚度測量儀。
集6項功能于一體
應用:各種材料的觀察和形狀測量可以進行毫米級到納米級的非接觸、
非破壞性形狀測量和觀察。它可以處理廣泛的工業(yè)領域中的各種樣品。
工業(yè)領域:
半導體材料(Si、Sic、抗蝕劑)、器件、電子元件
MEMS、微制造零件、涂層材料
薄膜、有機/無機材料、光學元件、薄膜
生物領域:
微流道
導管、劃痕等異物
可用于從研發(fā)領域接近量產(chǎn)的領域。
功能介紹:
白光共聚焦功能
寬視野觀察提高效率
采用白光光源可以獲取高清全彩圖像,有助于觀察。
激光共聚焦功
高倍率和高分辨觀察
配備波長405nm的半導體激光器、無需預處理即可清晰采集納米級精細結(jié)構(gòu),分辨率堪比電子顯微鏡。
鈮酸鋰 倍率:11000倍 半導體部件 倍率:3700倍
微分干涉功能
納米級凹凸觀察
共聚焦和微分干涉對比(DIC)的組合提供了樣品細微缺陷的清晰化觀察,可不受背面影響的情況下觀察透明樣品的正面
共聚焦觀察 共聚焦微分干涉觀察
垂直掃描白光干涉功能
毫米視野下的納米級臺階高度測量
高度分布數(shù)據(jù)是通過獲取白光和雙光干涉物鏡在光軸方向掃描時產(chǎn)生的干涉條紋強度峰值處的z-scale值來計算的。該方法適用于寬視場測量,因為理論上在任何放大倍數(shù)的物鏡下都具有相同的高度測量分辨率。
1.5mm視野下44nm的測量 數(shù)um高度下10nm-100nm高度測量
相移干涉測量功能
埃米級臺階高度測量
由于單波長光和兩光束干涉物鏡產(chǎn)生的干涉條紋是基于樣品表面的光程差分布,因此通過相位信息分析使用四個相對于光軸不同位置的干涉條紋圖像來計算高度分布數(shù)據(jù)。
反射光膜厚測量功能
納米級透明膜厚測量
使用波長選擇功能測量6個波長的*反射率,使用光學模型擬合計算膜厚。可以測量幾納米到1微米的單層/多層膜厚。由于測量區(qū)域是根據(jù)共焦觀察圖像的,因此可以計算亞微米微小區(qū)域到幾毫米整個視場的平均膜厚。此外,由于可以測量每個像素的膜厚,因此可以測量膜厚分布。
規(guī)格參數(shù):
其他推薦產(chǎn)品
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白光共聚焦顯微鏡OPTELICS HYBRID+
日本Lasertec以雙共聚焦光學系為基礎,搭載微分干涉觀察,垂直白光干涉測定,相差干涉測定,反射分光膜厚測定等功能,通常多臺設備才能完成的測試,僅需一臺設備即可實現(xiàn)。
關鍵詞:激光共聚焦顯微鏡,白光共聚焦顯微鏡,lasertec共聚焦顯微鏡
OPTELICS HYBRID+ 簡介:
日本Lasertec公司推出了Optelics混合共焦顯微鏡,將激光和白光源組合在一體,用于多功能高性能共聚顯微鏡.兩組共焦光學器件與附加器件相結(jié)合,包括干涉儀,微分干涉對比觀察和光譜反射膜厚度測量儀。
集6項功能于一體
應用:各種材料的觀察和形狀測量可以進行毫米級到納米級的非接觸、
非破壞性形狀測量和觀察。它可以處理廣泛的工業(yè)領域中的各種樣品。
工業(yè)領域:
半導體材料(Si、Sic、抗蝕劑)、器件、電子元件
MEMS、微制造零件、涂層材料
薄膜、有機/無機材料、光學元件、薄膜
生物領域:
微流道
導管、劃痕等異物
可用于從研發(fā)領域接近量產(chǎn)的領域。
功能介紹:
白光共聚焦功能
寬視野觀察提高效率
采用白光光源可以獲取高清全彩圖像,有助于觀察。
激光共聚焦功
高倍率和高分辨觀察
配備波長405nm的半導體激光器、無需預處理即可清晰采集納米級精細結(jié)構(gòu),分辨率堪比電子顯微鏡。
鈮酸鋰 倍率:11000倍 半導體部件 倍率:3700倍
微分干涉功能
納米級凹凸觀察
共聚焦和微分干涉對比(DIC)的組合提供了樣品細微缺陷的清晰化觀察,可不受背面影響的情況下觀察透明樣品的正面
共聚焦觀察 共聚焦微分干涉觀察
垂直掃描白光干涉功能
毫米視野下的納米級臺階高度測量
高度分布數(shù)據(jù)是通過獲取白光和雙光干涉物鏡在光軸方向掃描時產(chǎn)生的干涉條紋強度峰值處的z-scale值來計算的。該方法適用于寬視場測量,因為理論上在任何放大倍數(shù)的物鏡下都具有相同的高度測量分辨率。
1.5mm視野下44nm的測量 數(shù)um高度下10nm-100nm高度測量
相移干涉測量功能
埃米級臺階高度測量
由于單波長光和兩光束干涉物鏡產(chǎn)生的干涉條紋是基于樣品表面的光程差分布,因此通過相位信息分析使用四個
相對于光軸不同位置的干涉條紋圖像來計算高度分布數(shù)據(jù)。
反射光膜厚測量功能
納米級透明膜厚測量
使用波長選擇功能測量6個波長的*反射率,使用光學模型擬合計算膜厚。可以測量幾納米到1微米的單層/多層膜厚。由于測量區(qū)域是根據(jù)共焦觀察圖像的,因此可以計算亞微米微小區(qū)域到幾毫米整個視場的平均膜厚。此外,由于可以測量每個像素的膜厚,因此可以測量膜厚分布。
規(guī)格參數(shù):