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靶向納米顆??箟簭姸仍囼灆C工作原理
靶向納米顆??箟簭姸仍囼灆C是一種用于測定靶向納米顆粒在壓力作用下的力學性能的*設備。
靶向納米顆??箟簭姸仍囼灆C工作原理通過施加垂直壓力至顆粒破裂,記錄破裂瞬間的臨界壓力值,直接反映靶向納米顆粒的抗壓強度,為藥物載體設計提供關鍵數(shù)據(jù)?。
?靶向納米顆??箟簭姸仍囼灆C技術特點:
?高精度測量?:采用電子傳感器和精密控制系統(tǒng),分辨率可達±0.5%以內(nèi),適用于微米級納米顆粒測試?。
?自動化操作?:集成數(shù)據(jù)采集軟件,自動生成壓力-變形曲線、統(tǒng)計大值/小值/平均值,并支持結(jié)果打印?。
?環(huán)境適應性?:可調(diào)節(jié)試驗速度(如靜壓接觸樣品前后的獨立速度控制),適應不同溫濕度條件下的測試需求?。
靶向納米顆??箟簭姸仍囼灆C技術參數(shù):
1. 產(chǎn)品規(guī)格: MX-0230
2. 精度等級: 0.5級
3. 額定負荷: 0.5N 1N 5N 10N 20N 50N(任選或多選)
4. 有效測力范圍:0.1/100-100;
5. 試驗力分辨率,負荷±500000碼;內(nèi)外不分檔,且全程分辨率不變。
6. 位移分辨率:0.0001mm
7. 變形分辨率:0.0001mm
8. 有效試驗寬度:120mm
9. 有效試驗空間:300mm
10. 試驗速度::0.001~300mm/min(任意調(diào))
11. 速度精度:示值的±0.5%以內(nèi);
12.位移測量精度:示值的±0.5%以內(nèi);
13.變形測量精度:示值的±0.5%以內(nèi);
14.應力控速率范圍: 0.005%~6%FS/S
15.應力控速率精度: 速率<0.05%FS/S時,為設定值的±1%以內(nèi);速率≥0.05%FS/S時,為設定值的±0.5%以內(nèi);
16.應變控速率范圍: 0.002%~6%FS/S
17.應變控速率精度: 速率<0.05%FS/S時,為設定值的±2%以內(nèi);速率≥0.05%FS/S時,為設定值的±0.5%以內(nèi);
18. 恒力/位移/變形測量范圍:0.5%~100FS
19.恒力/位移/變形測量精度:設定值<10%FS時, 為設定值的±1%以內(nèi); 設定值≥10%FS時, 為設定值的±0.1%以內(nèi);
20.試臺升降裝置:快/慢兩種速度控制,可點動;
21.試臺安全裝置:電子限位保護
22.試臺返回:手動可以高速度返回試驗初始位置,自動可在試驗結(jié)束后自動返回;
23.試驗定時間自動停車,試驗定變形自動停車,試驗定負荷自動停車
24.載保護:過大負荷10%時自動保護;
25. 自動診斷功能,定時對測量系統(tǒng)、驅(qū)動系統(tǒng)進行過載、過壓、過流、負荷等檢查,出現(xiàn)異常情況立即進行保護
26.電源功率: 200W
27.主機重量: 40kg
28. 電源電壓: 220V(單相)
29. 主機尺寸:430*315*855mm
30.整機體積:0.6方,重:77KG