供應(yīng)EC770電化學(xué)工作站EC770非標(biāo)加工

儀器介紹                               

儀器介紹
EC700系列電化學(xué)工作站是國(guó)內(nèi)款模塊化、全電腦控制的高性能電化學(xué)綜合測(cè)試儀，適合兩電極、三電極及四電極工作模式，可滿足化學(xué)、材料、能源、環(huán)境、醫(yī)學(xué)等眾多領(lǐng)域的科研及教學(xué)工作。

技術(shù)參數(shù) 

EC770電化學(xué)工作站
硬件技術(shù)指標(biāo)：
模 塊 化 結(jié) 構(gòu) 是（優(yōu)點(diǎn):進(jìn)口儀器的標(biāo)準(zhǔn)配備，擴(kuò)展性強(qiáng)，降低地線阻抗，提高測(cè)量精度）
恒 電 位 / 恒 電 流 儀
2A± 大 電 流
10V± 大 反 應(yīng) 電 壓
電 位 掃 描 跨 度 范 圍20V
電 位 上 升 時(shí) 間< 1 uS
 28 V±槽 壓
三 電 極 或 四 電 極 設(shè) 置
參 比 電 極 輸 入 阻 1012 Ω′抗1
10-9 A/V需屏蔽箱）′10-12 A/V —1′10-12 A/V － 1 A/V 共12 檔（1′電 流 測(cè) 量 范 圍1
輸 入 偏 置 電 流< 1 pA
電 流 測(cè) 量 分 辨 率電流范圍的0.0004％
施 加 電 位 分 辨 率30μV@跨度2V、300μV@跨度20V
電 位 更 新 速 率8 MHz
快 速 數(shù) 據(jù) 采 集18位分辨率@/800KHz
輔 助 數(shù) 據(jù) 采 集24 位 @ 10 Hz
自 動(dòng) 及 手 動(dòng) iR 降 補(bǔ) 償硬件支持
CV 和 LSV 掃 描 速 度0.000001 - 5000 V/s
電 位 掃 描 時(shí) 電 位 增 量30μV @240 V/s、300μV @2400 V/s
CA 和 CC 脈 沖 寬 度0.0001 — 10000 sec
CA 和 CC 循 環(huán) 次 數(shù)250
DPV 和 NPV 脈 沖 寬 度0.0001 - 10 sec
自 動(dòng) 電 位 和 電 流 零 位 調(diào) 整
電 位 和 電 流 測(cè) 量 低 通 濾波 器 , 自 動(dòng) 或 手 動(dòng) 設(shè) 置
旋 轉(zhuǎn) 電 極 控 制 輸 出
電 解 池 控 制 輸 出
自 動(dòng) 、手 動(dòng)iR降 補(bǔ) 償
大 數(shù) 據(jù) 長(zhǎng) 度128k –20M 可 選 擇
儀 器 尺 寸36cm(W)×14cm(H)×35cm(L)
電 源 要 求AC220V/50Hz ±10%
工 作 環(huán) 境溫度-10℃～40℃，相對(duì)濕度75%以下。
儀 器 凈 重約7.5公斤
可提供的方法：
線性掃描伏安法（LSV）
循環(huán)伏安法（CV/One vertex）
循環(huán)伏安法（CV/Two vertex）
循環(huán)伏安法（CV/One vertex/Multi）
循環(huán)伏安法（CV/ Two vertex/Multi）
階梯波伏安法（LSC/Staircase）
階梯波伏安法（CV/One vertex） （staircase）
階梯波伏安法（CV/Two vertex） （staircase）
階梯波伏安法（CV/One vertex/Multi）（staircase）
階梯波伏安法（CV/ Two vertex/Multi）（staircase）
循環(huán)/差分（微分）脈沖伏安法 （DPV+Cyclic）
循環(huán)/方波伏安法（SWV+Cyclic）
常規(guī)脈沖伏安法（NPV）
反式常規(guī)脈沖伏安法（Reverse NPV）
差分（微分）常規(guī)脈沖伏安法 （DNPV）
計(jì)時(shí)電流法（One Step CA）
計(jì)時(shí)電流法（Two Step CA）
計(jì)時(shí)電量法（One Step CC）
計(jì)時(shí)電量法（Two Step CC）
計(jì)時(shí)電位法（One Step CP）
計(jì)時(shí)電位法（Two Step CP）
電流掃描計(jì)時(shí)電位法（CPCR）
電流掃描 - 階躍 - 保持混合技術(shù)（I- SSRT）
電位掃描 - 階躍 - 保持混合技術(shù)（P-SSRT）
方波電位安培檢測(cè)（Square-Wave Generator）
三角波電位安培檢測(cè)（Triangular -Wave Generator）
正弦波電位安培檢測(cè)（Sine -Wave Generator）
脈沖電位安培檢測(cè)（Pulse Generator）
電流 - 時(shí)間曲線（I - T）
控制電流電解庫(kù)侖法（CCC）
控制電位電解庫(kù)侖法（CPC）
差分/（微分）脈沖溶出伏安法（DPDV）
方波溶出伏安法（SWDV）
線性掃描溶出伏安法（LSDV）
常規(guī)脈沖溶出伏安法（NPDV）
差分/（微分）常規(guī)脈沖溶出伏安法（DNPDV）
差分/（微分）脈沖溶出伏安法（DPSV）
差分/（微分）常規(guī)脈沖溶出伏安法（DNPDV）
差分/（微分）電位溶出伏安法（PSA）
開(kāi)路電壓 - 時(shí)間曲線（OCPT）
Tafel 方法（TAFEL）
斷電流法（OCCT）Open Circuit Current Technology
交流(含相敏)伏安法(ACV)
二次諧波交流(相敏)伏安法(SHACV)
恒電位電池充放電技術(shù)
恒電流電池充放電技術(shù)
交流阻抗測(cè)量（IMP）
交流阻抗-時(shí)間測(cè)量（IMPT）
交流阻抗-電位測(cè)量（IMPE）
可編程任意波形實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)
注：1、儀器的保質(zhì)期為3年。
2、軟件終身免費(fèi)升級(jí)。
3、用戶可根據(jù)自己要求進(jìn)行模塊任意匹配。
4、包括極譜法。

主要特點(diǎn) 

主要特點(diǎn)
EC700系列電化學(xué)綜合測(cè)試儀擁有±28V的槽壓、±2A的電流范圍，電流測(cè)量下限低于50pA，可直接用于微、納米電極上穩(wěn)態(tài)電流的測(cè)量，當(dāng)與屏蔽箱連接時(shí)可測(cè)量1 pA或更低的電流。此外，儀器可配置大電流模塊，從而將電流測(cè)量范圍拓寬至±5A。
EC700系列電化學(xué)綜合測(cè)試儀的測(cè)試技術(shù)豐富全面，不僅具備常規(guī)的電化學(xué)、電分析測(cè)試技術(shù)，而且還增加了多頂點(diǎn)循環(huán)伏安、階梯伏安、反式常規(guī)脈沖、循環(huán)脈沖、循環(huán)方波以及的掃描-階躍-延時(shí)等技術(shù)。此外，EC系列電化學(xué)儀還具備可編程任意波形實(shí)驗(yàn)技術(shù)，根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求，由用戶自定義任意波形，從而完成經(jīng)典電化學(xué)方法所覆蓋不到的實(shí)驗(yàn)。
EC700系列電化學(xué)綜合測(cè)試儀內(nèi)部含有高性能的任意波形發(fā)生器（DDS系統(tǒng)），可用于連續(xù)和分段掃描，不僅可實(shí)現(xiàn)8M點(diǎn)（16bit）/S的電位掃描速率，而且具有±10V的寬掃描范圍。在此電壓范圍內(nèi)可以進(jìn)行任意跨度的掃描，其連續(xù)掃描跨度達(dá)20V。在實(shí)現(xiàn)大跨度掃描的同時(shí)兼具微小跨度的電位增量。儀器內(nèi)部可根據(jù)掃描范圍的不同自動(dòng)選擇電位增量的大小，當(dāng)掃描電壓在2V跨度范圍內(nèi)電位增量?jī)H有微小的30uV。由于該儀器擁有8M點(diǎn)（16bit）/S的數(shù)據(jù)處理速度，所以在電位增量為30uV時(shí)掃描速度依然可達(dá)240V/S，當(dāng)電位增量在300uV時(shí)掃描速度可達(dá)2400V/S。
在信號(hào)采集方面，EC700系列電化學(xué)綜合測(cè)試儀使用了高信噪比、高動(dòng)態(tài)范圍的18bit模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器，分辨率可達(dá)信號(hào)輸入范圍的1/260000。在實(shí)現(xiàn)高精度的同時(shí)采樣速度依然可達(dá)800K/S，實(shí)現(xiàn)了快速與的平衡。
在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)方面，EC700系列電化學(xué)綜合測(cè)試儀采用了先出的堆棧式存儲(chǔ)器，儀器的采樣速率不受儀器與PC機(jī)通訊速率的限制，及時(shí)將高速采集的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在儀器內(nèi)部并實(shí)時(shí)傳給PC機(jī)，實(shí)現(xiàn)了真正的高速實(shí)時(shí)采樣。
在控制溫漂方面，EC700系列電化學(xué)綜合測(cè)試儀采用了的全自動(dòng)零點(diǎn)校正系統(tǒng)，通過(guò)自動(dòng)監(jiān)控來(lái)調(diào)整溫度漂移所帶來(lái)的測(cè)量誤差，與同類儀器相比大幅提高了其精度和可靠性。