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WaferX 3日本理學(xué)RIGAKU同時(shí)分析 300 mm 和 200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分熒光光譜儀

發(fā)布時(shí)間:2025/04/23 08:57:12 發(fā)布廠商:北崎國(guó)際貿(mào)易(北京)有限公司 >> 進(jìn)入該公司展臺(tái)

WaferX 310 系列

用于薄膜評(píng)估的 X 射線熒光光譜儀

波長(zhǎng)色散 X 射線熒光光譜儀 (WD-XRF) 可以無(wú)損、非接觸式方式同時(shí)分析 300 mm 和 200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分。

這是一種波長(zhǎng)色散 X 射線熒光光譜儀 (WD-XRF),可以無(wú)損、非接觸的方式同時(shí)分析 300 mm 和 200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分。 它與 GEM300 兼容,并支持 300mmFab 的在線規(guī)格。 XYθZ 驅(qū)動(dòng)式樣品臺(tái)(方法)可準(zhǔn)確分析各種金屬膜,避免了衍射線的影響。 使用 4kW 高功率 X 射線管可以測(cè)量痕量元素。 此外,通過(guò)安裝高靈敏度硼檢測(cè)器,可以高精度地分析輕元素,例如 BPSG 薄膜中的硼分析。 它是同類(lèi)產(chǎn)品中*個(gè)配備樣品高度校正功能和自動(dòng)校準(zhǔn)(全自動(dòng)日常檢查和強(qiáng)度校正功能)的儀器。

詢價(jià)詢問(wèn)有關(guān)產(chǎn)品的問(wèn)題目錄WaferX 310 在線同步 WDXRF 光譜儀

WaferX 310 規(guī)格

產(chǎn)品名稱(chēng)WaferX 310 系列
技術(shù)波長(zhǎng)色散 X 射線熒光光譜法 (WD-XRF)
晶圓上 300 mm、200 mm 以及各種薄膜厚度和成分
科技4 kW 高功率 X 射線源,通過(guò)工廠自動(dòng)化處理 WDXRF
主要組件多達(dá) 21 個(gè)通道,固定類(lèi)型(?Be 到 ??U),掃描類(lèi)型(??Ti 到 ??U),CE 標(biāo)志,GEM-300,SEMI S2/S8
選擇300 mm 工廠自動(dòng)化
控制 (PC)內(nèi)部 PC、MS Windows?作系統(tǒng)
本體尺寸1200 (寬) x 1950 (高) x 2498 (深) 毫米
質(zhì)量1166 kg(主機(jī))
權(quán)力三相 200 VAC 50/60 Hz,50 A


WaferX 310
用于薄膜評(píng)估
日本理學(xué)RIGAKU用于薄膜評(píng)估的 X
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