納米壓印設(shè)備之熱壓印:EVG510HE 一、 簡(jiǎn)介 EVG公司成立于1980年,公司部和制造廠位于奧地利,在美國(guó)、日本和臺(tái)灣設(shè)有分公司,并在其他各地設(shè)有銷(xiāo)售代理及售后服務(wù)部,產(chǎn)品和服務(wù)遍及世界各地。 EVG公司是一家致力于半導(dǎo)體制造設(shè)備的全球供應(yīng)商,其豐富的產(chǎn)品系列包括:涂膠和噴膠/顯影機(jī)/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機(jī)、基片檢測(cè)系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時(shí)鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。 目前已有數(shù)千臺(tái)設(shè)備安裝在世界各地,被廣泛地應(yīng)用于MEMS微機(jī)電系統(tǒng)/微流體器件,SOI基片制造,3D封裝,納米壓印,化合物半導(dǎo)體器件和功率器件等領(lǐng)域。 EVG是世界上為數(shù)不多的可以商業(yè)化納米壓印設(shè)備的好的公司,可為客戶(hù)提供完整的納米壓印方案,包括熱壓印、紫外壓印、微接觸印刷。EVG公司以其的極其優(yōu)異的對(duì)準(zhǔn)技術(shù)和好的的熱壓技術(shù)為納米壓印的實(shí)施打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。 EVG510HE是一款半自動(dòng)的熱壓印設(shè)備,用于硬模壓印和納米印刷。該熱壓印系統(tǒng)配備了一個(gè)通用的熱壓腔室,具備高真空和高接觸壓力能力,可以處理用于熱壓印的所有聚合物材料。EVG510HE可以實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)寬比的熱壓印和多重脫模工藝,為客戶(hù)提供高質(zhì)量的圖形轉(zhuǎn)移和納米級(jí)分辨率。 二、應(yīng)用范圍 納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面: LEDS 制作,LED PSS納米壓印工藝,LED納米透鏡陣列;微流體學(xué);芯片實(shí)驗(yàn)室;抗反射層; 納米壓印光柵; 蓮花效應(yīng);光子帶隙;光學(xué)及通訊:光晶體,激光器件;生物技術(shù)解決方案:醫(yī)藥分析,血液分析,細(xì)胞生長(zhǎng)。 二、 主要特點(diǎn) u 用于聚合物襯底和旋涂樹(shù)脂的熱壓??; u 自動(dòng)化熱壓印程序; u EVG的單獨(dú)對(duì)準(zhǔn)技術(shù)用于壓印和印刷前對(duì)準(zhǔn); u 全程軟件控制工藝流程的運(yùn)行; u 外置熱壓脫模和冷卻臺(tái); u 紫外納米壓印可選 四、技術(shù)參數(shù) u 印章/襯底尺寸:大對(duì)角線長(zhǎng)度150mm; u 接觸壓力:大10KN; u 堆垛厚度:大15mm;
納米壓印設(shè)備之熱壓印:EVG510HE
一、 簡(jiǎn)介
EVG公司成立于1980年,公司部和制造廠位于奧地利,在美國(guó)、日本和臺(tái)灣設(shè)有分公司,并在其他各地設(shè)有銷(xiāo)售代理及售后服務(wù)部,產(chǎn)品和服務(wù)遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半導(dǎo)體制造設(shè)備的全球供應(yīng)商,其豐富的產(chǎn)品系列包括:涂膠和噴膠/顯影機(jī)/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機(jī)、基片檢測(cè)系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時(shí)鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。
目前已有數(shù)千臺(tái)設(shè)備安裝在世界各地,被廣泛地應(yīng)用于MEMS微機(jī)電系統(tǒng)/微流體器件,SOI基片制造,3D封裝,納米壓印,化合物半導(dǎo)體器件和功率器件等領(lǐng)域。
EVG是世界上為數(shù)不多的可以商業(yè)化納米壓印設(shè)備的好的公司,可為客戶(hù)提供完整的納米壓印方案,包括熱壓印、紫外壓印、微接觸印刷。EVG公司以其的極其優(yōu)異的對(duì)準(zhǔn)技術(shù)和好的的熱壓技術(shù)為納米壓印的實(shí)施打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。
EVG510HE是一款半自動(dòng)的熱壓印設(shè)備,用于硬模壓印和納米印刷。該熱壓印系統(tǒng)配備了一個(gè)通用的熱壓腔室,具備高真空和高接觸壓力能力,可以處理用于熱壓印的所有聚合物材料。EVG510HE可以實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)寬比的熱壓印和多重脫模工藝,為客戶(hù)提供高質(zhì)量的圖形轉(zhuǎn)移和納米級(jí)分辨率。
二、應(yīng)用范圍
納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面:
LEDS 制作,LED PSS納米壓印工藝,LED納米透鏡陣列;微流體學(xué);芯片實(shí)驗(yàn)室;抗反射層; 納米壓印光柵; 蓮花效應(yīng);光子帶隙;光學(xué)及通訊:光晶體,激光器件;生物技術(shù)解決方案:醫(yī)藥分析,血液分析,細(xì)胞生長(zhǎng)。
二、 主要特點(diǎn)
u 用于聚合物襯底和旋涂樹(shù)脂的熱壓??;
u 自動(dòng)化熱壓印程序;
u EVG的單獨(dú)對(duì)準(zhǔn)技術(shù)用于壓印和印刷前對(duì)準(zhǔn);
u 全程軟件控制工藝流程的運(yùn)行;
u 外置熱壓脫模和冷卻臺(tái);
u 紫外納米壓印可選
四、技術(shù)參數(shù)
u 印章/襯底尺寸:大對(duì)角線長(zhǎng)度150mm;
u 接觸壓力:大10KN;
u 堆垛厚度:大15mm;
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納米壓印設(shè)備之熱壓印:EVG510HE
一、 簡(jiǎn)介
EVG公司成立于1980年,公司部和制造廠位于奧地利,在美國(guó)、日本和臺(tái)灣設(shè)有分公司,并在其他各地設(shè)有銷(xiāo)售代理及售后服務(wù)部,產(chǎn)品和服務(wù)遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半導(dǎo)體制造設(shè)備的全球供應(yīng)商,其豐富的產(chǎn)品系列包括:涂膠和噴膠/顯影機(jī)/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機(jī)、基片檢測(cè)系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時(shí)鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。
目前已有數(shù)千臺(tái)設(shè)備安裝在世界各地,被廣泛地應(yīng)用于MEMS微機(jī)電系統(tǒng)/微流體器件,SOI基片制造,3D封裝,納米壓印,化合物半導(dǎo)體器件和功率器件等領(lǐng)域。
EVG是世界上為數(shù)不多的可以商業(yè)化納米壓印設(shè)備的好的公司,可為客戶(hù)提供完整的納米壓印方案,包括熱壓印、紫外壓印、微接觸印刷。EVG公司以其的極其優(yōu)異的對(duì)準(zhǔn)技術(shù)和好的的熱壓技術(shù)為納米壓印的實(shí)施打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。
EVG510HE是一款半自動(dòng)的熱壓印設(shè)備,用于硬模壓印和納米印刷。該熱壓印系統(tǒng)配備了一個(gè)通用的熱壓腔室,具備高真空和高接觸壓力能力,可以處理用于熱壓印的所有聚合物材料。EVG510HE可以實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)寬比的熱壓印和多重脫模工藝,為客戶(hù)提供高質(zhì)量的圖形轉(zhuǎn)移和納米級(jí)分辨率。
二、應(yīng)用范圍
納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面:
LEDS 制作,LED PSS納米壓印工藝,LED納米透鏡陣列;微流體學(xué);芯片實(shí)驗(yàn)室;抗反射層; 納米壓印光柵; 蓮花效應(yīng);光子帶隙;光學(xué)及通訊:光晶體,激光器件;生物技術(shù)解決方案:醫(yī)藥分析,血液分析,細(xì)胞生長(zhǎng)。
二、 主要特點(diǎn)
u 用于聚合物襯底和旋涂樹(shù)脂的熱壓??;
u 自動(dòng)化熱壓印程序;
u EVG的單獨(dú)對(duì)準(zhǔn)技術(shù)用于壓印和印刷前對(duì)準(zhǔn);
u 全程軟件控制工藝流程的運(yùn)行;
u 外置熱壓脫模和冷卻臺(tái);
u 紫外納米壓印可選
四、技術(shù)參數(shù)
u 印章/襯底尺寸:大對(duì)角線長(zhǎng)度150mm;
u 接觸壓力:大10KN;
u 堆垛厚度:大15mm;