EVG800系列鍵合機:EVG805DB
一、 簡介
EVG公司成立于1980年,公司部和制造廠位于奧地利,在美國、日本和臺灣設有分公司,并在其他各地設有銷售代理及售后服務部,產(chǎn)品和服務遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半導體制造設備的全球供應商,其豐富的產(chǎn)品系列包括:涂膠和噴膠/顯影機/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機、基片檢測系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。
目前已有數(shù)千臺設備安裝在世界各地,被廣泛地應用于MEMS微機電系統(tǒng)/微流體器件,SOI基片制造,3D封裝,納米壓印,化合物半導體器件和功率器件等領域。
EVG公司是世界上頂好的基片鍵合設備制造商,其鍵合工藝被認定為MEMS領域的標準工藝。EVG鍵合系統(tǒng)可實現(xiàn)陽極鍵合、熱壓鍵合、中間層粘著鍵合、 玻璃漿料鍵合、硅-硅直接鍵合、共晶鍵合及SOI鍵合等所有鍵合工藝。EVG鍵合設備型號齊全,從手動裝片系統(tǒng)到全自動片盒送片多工藝室系統(tǒng),可以滿足不同客戶的應用要求。無論手動/半自動裝片系統(tǒng), 鍵合工藝全部自動完成;而且,的基片夾具及鍵合室結構設計,可實現(xiàn)高精度的圓片鍵合;此外上/下極板為獨立分別加熱控制,大加熱溫度可達650度。
EVG805DB是一款半自動的解鍵合設備,用于將已加工完成的薄器件片從硅、藍寶石或其它材料的承載片上分離。根據(jù)臨時鍵合中間材質的不同,可使用不同的分離方法,如熱解、滑移,剝離,紫外活化等。EVG805DB還可以匹配EVG新的技術模塊EZD,使硅片可以在室溫下解鍵合。
二、應用范圍
EVG805DB是一款主要用于薄基片加工領域鍵合分離設備。廣泛應用于存儲器,CMOS,3D-TSV,功率器件(如IGBTs),化合物半導體(如高亮度LEDs或RF功率放大器),以及其它需要薄片加工的領域(如MEMS,RFID-tags,柔性顯示器等)。
三、主要特點
u 半自動工工藝處理
u 菜單控制
u 工藝參數(shù)實時監(jiān)控
u 不同的卡盤設計用以支持不同規(guī)格的基片(大300mm)
u 單獨薄載片用以承接分離的器件基片
u 不同的解鍵合方法: 滑開,掀開,edge zone debond (EZD® ), UV 輔助分離
四、技術參數(shù)
u 大硅片尺寸: 200mm or 300 mm
u 上料腔室: 手動, 2軸機械手
其他推薦產(chǎn)品
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EVG800系列鍵合機:EVG805DB
一、 簡介
EVG公司成立于1980年,公司部和制造廠位于奧地利,在美國、日本和臺灣設有分公司,并在其他各地設有銷售代理及售后服務部,產(chǎn)品和服務遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半導體制造設備的全球供應商,其豐富的產(chǎn)品系列包括:涂膠和噴膠/顯影機/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機、基片檢測系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。
目前已有數(shù)千臺設備安裝在世界各地,被廣泛地應用于MEMS微機電系統(tǒng)/微流體器件,SOI基片制造,3D封裝,納米壓印,化合物半導體器件和功率器件等領域。
EVG公司是世界上頂好的基片鍵合設備制造商,其鍵合工藝被認定為MEMS領域的標準工藝。EVG鍵合系統(tǒng)可實現(xiàn)陽極鍵合、熱壓鍵合、中間層粘著鍵合、 玻璃漿料鍵合、硅-硅直接鍵合、共晶鍵合及SOI鍵合等所有鍵合工藝。EVG鍵合設備型號齊全,從手動裝片系統(tǒng)到全自動片盒送片多工藝室系統(tǒng),可以滿足不同客戶的應用要求。無論手動/半自動裝片系統(tǒng), 鍵合工藝全部自動完成;而且,的基片夾具及鍵合室結構設計,可實現(xiàn)高精度的圓片鍵合;此外上/下極板為獨立分別加熱控制,大加熱溫度可達650度。
EVG805DB是一款半自動的解鍵合設備,用于將已加工完成的薄器件片從硅、藍寶石或其它材料的承載片上分離。根據(jù)臨時鍵合中間材質的不同,可使用不同的分離方法,如熱解、滑移,剝離,紫外活化等。EVG805DB還可以匹配EVG新的技術模塊EZD,使硅片可以在室溫下解鍵合。
二、應用范圍
EVG805DB是一款主要用于薄基片加工領域鍵合分離設備。廣泛應用于存儲器,CMOS,3D-TSV,功率器件(如IGBTs),化合物半導體(如高亮度LEDs或RF功率放大器),以及其它需要薄片加工的領域(如MEMS,RFID-tags,柔性顯示器等)。
三、主要特點
u 半自動工工藝處理
u 菜單控制
u 工藝參數(shù)實時監(jiān)控
u 不同的卡盤設計用以支持不同規(guī)格的基片(大300mm)
u 單獨薄載片用以承接分離的器件基片
u 不同的解鍵合方法: 滑開,掀開,edge zone debond (EZD® ), UV 輔助分離
四、技術參數(shù)
u 大硅片尺寸: 200mm or 300 mm
u 上料腔室: 手動, 2軸機械手